ফটোরেজিস্ট অণুর মানচিত্র তৈরি, উন্নত চিপে ত্রুটি ৯৯ শতাংশ কমানোর দাবি চীনা গবেষকদের

ফটোরেজিস্ট নিয়ে এই নতুন অন্তর্দৃষ্টি কেন গুরুত্বপূর্ণ

চীনা গবেষকদের দাবি, চিপ লিথোগ্রাফিতে ব্যবহৃত তরল পাতলা স্তরে ফটোরেজিস্ট অণুগুলো কীভাবে আচরণ করে, তা তাঁরা সরাসরি পর্যবেক্ষণ করেছেন। সেই অন্তর্দৃষ্টিকে কারখানায় ব্যবহারযোগ্য সমাধানে রূপ দিয়ে ত্রুটি ব্যাপকভাবে কমিয়েছেন। পিকিং বিশ্ববিদ্যালয়ের একটি দলের নেতৃত্বে এবং শিল্পখাতের অংশীদারদের সহযোগিতায় করা গবেষণাটি ২০২৫ সালের ৩০ সেপ্টেম্বর Nature Communications-এ প্রকাশিত হয়। দলটির প্রতিবেদনে বলা হয়েছে, বাস্তব উৎপাদন পরিস্থিতিতে তাদের পদ্ধতিতে ১২ ইঞ্চি ওয়েফারে পলিমারের অবশিষ্টাংশ ৯৯ শতাংশ পর্যন্ত কমেছে। এতে ৭ ন্যানোমিটার ও তার চেয়ে ছোট প্রসেস নোডে উৎপাদনের ফলন বাড়তে পারে।

ফটোরেজিস্ট হলো আলো-সংবেদনশীল আবরণ, যা সিলিকন ওয়েফারে ট্রানজিস্টর ও তারের নকশা নির্ধারণ করে। ফটোলিথোগ্রাফির সময় একটি স্ক্যানার সার্কিটের ছবি রেজিস্টের ওপর ফেলে। আলোর সংস্পর্শে আসা অংশগুলোর দ্রবণীয়তা বদলে যায়; এরপর ডেভেলপমেন্ট ও পরিষ্কারের মাধ্যমে নকশাটি ফুটে ওঠে। সামান্য অবশিষ্টাংশ বা জমে থাকা পদার্থ সার্কিটের লাইন শর্ট করতে পারে, সংযোগ বিচ্ছিন্ন করতে পারে এবং পরের ধাপগুলোতে ত্রুটি ঘটাতে পারে। সরু লাইন ও আঁটসাঁট ব্যবধানের উন্নত নোডে ভুল জায়গায় থাকা অণুর ছোট একটি গুচ্ছও একটি চিপ নষ্ট করে দিতে পারে।

চীন আমদানি করা ফটোরেজিস্টের ওপর, বিশেষ করে উচ্চমানের পণ্যের ক্ষেত্রে, ব্যাপকভাবে নির্ভরশীল। সবচেয়ে উন্নত নোডে উৎপাদনের ফলন বাড়াতে দেশটির স্থানীয় চিপ কারখানাগুলোর সমস্যার অন্যতম কারণ এই নির্ভরতা। ASML-এর অত্যাধুনিক এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট স্ক্যানার ২০১৯ সাল থেকে চীনের বাজারে নিষিদ্ধ থাকায়, স্থানীয় চিপ নির্মাতারা ৭ ন্যানোমিটার শ্রেণির বৈশিষ্ট্য তৈরিতে গভীর অতিবেগুনি রশ্মিনির্ভর একাধিক ধাপের প্যাটার্নিং ব্যবহার করেছে। এতে ফটোরেজিস্টের ভূমিকা বেড়ে যায়, কারণ কয়েক ডজন ধাপে ওয়েফারকে বারবার এক্সপোজার, ডেভেলপমেন্ট ও ভেজা পরিষ্কারের মধ্য দিয়ে যেতে হয়। আকস্মিক ত্রুটি কমলে প্রতি ওয়েফারে কার্যকর চিপের সংখ্যা বাড়ে।

গবেষকেরা ঠিক কী করেছেন

পিকিং বিশ্ববিদ্যালয়ের দলটি পলিমারগুলোকে তাদের স্বাভাবিক তরল পরিবেশে রেখেই ফটোরেজিস্টের পাতলা স্তরে ক্রায়ো ইলেকট্রন টমোগ্রাফি প্রয়োগ করেছে। এই ইমেজিং পদ্ধতিতে পাতলা নমুনাকে অত্যন্ত দ্রুত জমিয়ে অণুগুলোকে স্থির করা হয়। এরপর ট্রান্সমিশন ইলেকট্রন মাইক্রোস্কোপে বিভিন্ন কৌণিক অবস্থান থেকে ছবির একটি ধারাবাহিক সেট নেওয়া হয়। সফটওয়্যারের সাহায্যে ন্যানোমিটার-স্তরের রেজোলিউশনে ত্রিমাত্রিক মানচিত্র তৈরি করা হয়। এভাবে গবেষকেরা ডেভেলপমেন্ট ও রিন্সের সময় ফিল্মের ভেতরে এবং গ্যাস-তরল সংযোগস্থলে রেজিস্ট পলিমারগুলো কীভাবে সাজে ও পরস্পরে জড়ায়, তা দেখতে পেয়েছেন।

এই ছবিগুলোর সঙ্গে প্রক্রিয়াভিত্তিক পরীক্ষার ফল মিলিয়ে অবশিষ্টাংশের একটি অদৃশ্য উৎস চিহ্নিত করা হয়। ফিল্মের ওপরের দিকে সংযোগস্থলের কাছে লম্বা পলিমার শিকলগুলো পরস্পরের সঙ্গে গিঁট পাকাতে পারে। এরপর রিন্স ও শুকানোর সময় সেগুলো নকশার খাঁজে আটকে যায়। মানচিত্রের ভিত্তিতে দলটি সংযোগস্থলে পলিমারের জট বাধা ঠেকানোর একটি পদ্ধতি তৈরি করেছে। তাদের প্রতিবেদনে বলা হয়েছে, ১২ ইঞ্চি ওয়েফারে শিল্পকারখানার পরিবেশে এই পরিবর্তনে অবশিষ্টাংশ-সম্পর্কিত প্রায় সব ত্রুটি দূর হয়েছে।

জীববিজ্ঞান থেকে চিপ নির্মাণে: ক্রায়ো ইলেকট্রন টমোগ্রাফি কী

ক্রায়ো ইলেকট্রন টমোগ্রাফি, সংক্ষেপে ক্রায়ো-ইটি, কাঠামোগত জীববিজ্ঞানে প্রোটিন ও কোষকে তাদের স্বাভাবিক আকৃতিতে দেখার জন্য বিকশিত হয়েছিল। নমুনাকে কাচের মতো অবস্থায় জমিয়ে রাখা হয়; অর্থাৎ পানি ও দ্রাবক জমাট বাঁধলেও বরফের স্ফটিক তৈরি হয় না, যা কাঠামো নষ্ট করতে পারে। এরপর ইলেকট্রন মাইক্রোস্কোপে বিভিন্ন কৌণিক অবস্থান থেকে নেওয়া ছবিগুলো মিলিয়ে ত্রিমাত্রিক অবয়ব তৈরি করা হয়। এর মূল সুবিধা হলো, অণুগুলোকে শুকানো বা রং করার বদলে আগের অবস্থায় সংরক্ষণ করা যায়। শুকানো বা রং করার ফলে ভঙ্গুর কাঠামো সরে যেতে বা ক্ষতিগ্রস্ত হতে পারে। ক্রায়ো-ইটি সেমিকন্ডাক্টর উপকরণে প্রয়োগ করে গবেষকেরা দ্রবণে স্বাভাবিকভাবে নড়াচড়া ও পুনর্বিন্যাস করা পলিমারগুলোকে পর্যবেক্ষণ করতে পারছেন। এতে ত্রুটি সৃষ্টিকারী জালিকা গঠনের সময় সেগুলোকে সরাসরি দেখা সম্ভব হচ্ছে।

পলিমারের জট কেন ত্রুটি তৈরি করে

ডেভেলপমেন্টের সময় রেজিস্টের আলোর সংস্পর্শে আসা অংশ দ্রবীভূত হয়, আর অনাবৃত অংশ নিচের ফিল্মকে সুরক্ষা দিতে থেকে যায়। দুই অংশজুড়ে বিস্তৃত জট পাকানো শিকল ডেভেলপমেন্টের পর পাতলা পর্দার মতো অবশিষ্টাংশ রেখে যেতে পারে। এই ত্রুটিকে প্রায়ই ‘স্কামিং’ বলা হয়। খাঁজ ও সংযোগ-গর্তে পলিমারের গিঁট আটকে রিন্সেও থেকে যেতে পারে। এর ফলে তৈরি হওয়া অবশিষ্টাংশ পরে এচিং বা ধাতু জমার কাজে বাধা দেয়। এগুলো ফলন কমানোর পরিচিত কারণ। এগুলো লাইনের প্রান্তে খসখসে ভাব বাড়ায়, লাইনের মধ্যে সূক্ষ্ম সেতু তৈরি করে এবং পুনরায় প্রক্রিয়াকরণের প্রয়োজন ঘটায়। অনেক বৈশিষ্ট্য আক্রান্ত হলে ওয়েফার বাতিল করতে হয়। নকশার আকার যত ছোট হয়, সমস্যা তত গুরুতর হয়; কারণ অতিরিক্ত কয়েক ন্যানোমিটার উপাদানও ফাঁক বন্ধ করে দিতে বা গুরুত্বপূর্ণ মাত্রা বদলে দিতে পারে।

উন্নত নোডে উৎপাদনের ফলন কীভাবে বদলাতে পারে

ওয়েফারে তৈরি মোট ডাইয়ের মধ্যে যেসব চিপ কারখানার সব ধাপ পেরিয়ে কার্যকর থাকে, সেটিই উৎপাদনের ফলন। ৭ ন্যানোমিটার ও তার নিচের নোডে একটি আধুনিক সিস্টেম-অন-চিপে কয়েক হাজার কোটি ট্রানজিস্টর থাকতে পারে এবং এর জন্য শত শত প্রক্রিয়ার ধাপ লাগে। আকস্মিক ত্রুটি দ্রুত জমতে থাকে। ফটোরেজিস্টে সামান্য পরিবর্তনে একাধিক স্তরে অবশিষ্টাংশের সাধারণ কোনো উৎস দূর হলে, উৎপাদনের পুরো ধারায় এর প্রভাব গুণিতক হারে বাড়ে। এতে শেষ পর্যন্ত ফলন কয়েক শতাংশ বাড়তে পারে, যা ফাউন্ড্রির অর্থনীতিতে প্রতি কার্যকর ডাইয়ের খরচ উল্লেখযোগ্যভাবে কমায়।

ফটোরেজিস্টের আচরণ শুধু এক্সপোজার ও ডেভেলপমেন্টেই প্রভাব ফেলে না। এচিংয়ের নির্বাচনী ক্ষমতা, প্লাজমার ক্ষতি এবং ভেজা পরিষ্কারও পলিমার জালিকা কীভাবে তৈরি হয় ও ভেঙে যায় তার ওপর নির্ভর করে। গবেষক দলের দাবি, লিথোগ্রাফিতে অবশিষ্টাংশ কমানোর জন্য ব্যবহৃত একই সংযোগস্থল নিয়ন্ত্রণ এচিং ও পরিষ্কারের ধাপেও ত্রুটির প্রভাব ছড়ানো কমায়। এতে গুরুত্বপূর্ণ মাত্রা ও লাইনের খসখসে ভাব স্থিতিশীল রাখা সম্ভব হবে, যা ডিভাইসের বৈচিত্র্য ও কার্যক্ষমতা উন্নত করবে।

পুনঃপ্রক্রিয়ার ধাপ কম, প্রতি ওয়েফারে কার্যকর ডাই বেশি

ফাউন্ড্রিগুলো উৎপাদনের ফলন বাঁচাতে প্রায়ই ওয়েফারকে আবার পরিষ্কার বা মেরামতের ধাপে পাঠায়। প্রতিটি অতিরিক্ত ধাপে সময়, খরচ ও ঝুঁকি বাড়ে। অবশিষ্টাংশ ৯৯ শতাংশ কমলে বাড়তি ধাপের প্রয়োজন কমে যায়। এতে যন্ত্রপাতির সক্ষমতা খালি হয়, উৎপাদনচক্রের সময় কমে এবং রাসায়নিকের ব্যবহার হ্রাস পায়। গ্রাহকদের জন্য সুপ্ত ত্রুটি কমার অর্থ হলো বার্ন-ইন পরীক্ষা ও বাস্তব ব্যবহারে নির্ভরযোগ্যতা বাড়া। চিপ নকশাকারীদের জন্য লাইনের প্রস্থ ও সংযোগের তারতম্য কমলে সময় নির্ধারণ ও বিদ্যুৎ খরচ আরও অনুমানযোগ্য হয়।

চীনের চিপ কৌশলে এই গবেষণার অবস্থান

বিদেশি সরবরাহকারীদের ওপর নির্ভরতা কমানোর চীনা প্রচেষ্টায় উপকরণ ও লিথোগ্রাফি কেন্দ্রীয় বিষয়। ফটোরেজিস্ট এই ক্ষেত্রে স্পষ্ট দুর্বলতা। স্থানীয় সরবরাহকারীরা KrF ও ArF যন্ত্রের জন্য মাঝারি মানের পণ্যে অগ্রগতি করেছে, কিন্তু উচ্চমানের পণ্যের বাজার এখনো জাপান, যুক্তরাষ্ট্র ও দক্ষিণ কোরিয়ার প্রতিষ্ঠানগুলোর দখলে। শিল্পখাতের হিসাব অনুযায়ী, ২০২৪ সালে চীনের ফটোরেজিস্ট বাজারের আকার ছিল প্রায় ১১৪০ কোটি ইউয়ান; ২০২৫ সালেও প্রবৃদ্ধি অব্যাহত থাকার প্রত্যাশা রয়েছে। গত বছর বৈশ্বিক ফটোরেজিস্টের চাহিদার মূল্য ছিল প্রায় ২৭০ কোটি ডলার, যা নকশায় স্তরের সংখ্যা বৃদ্ধি ও নকশাবিধি আরও কঠোর হওয়ায় ২০৩১ সালের মধ্যে ৪৫০ কোটি ডলারে পৌঁছাতে পারে।

ন্যাশনাল ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট ইন্ডাস্ট্রি ইনভেস্টমেন্ট ফান্ডের সর্বশেষ অর্থায়ন পর্বে নীতিনির্ধারকেরা উপকরণকে অগ্রাধিকার দিয়েছেন। বিশ্লেষকদের তথ্য অনুযায়ী, তৃতীয় পর্যায়ে রাসায়নিক, ফটোরেজিস্ট ও সংশ্লিষ্ট প্রক্রিয়ার জন্য ৫০০০ কোটি ইউয়ানের বেশি বরাদ্দ রয়েছে; পাশাপাশি যন্ত্রপাতি ও সরঞ্জামেও বিনিয়োগ করা হচ্ছে। অভিন্ন নিয়ম নির্ধারণ এই উদ্যোগের অংশ। চীনের মান নির্ধারণ প্রশাসন এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট ফটোরেজিস্টের জন্য জাতীয় পরীক্ষার মানদণ্ড প্রকাশ করেছে। অভিন্ন পরীক্ষাপদ্ধতিতে বিশ্ববিদ্যালয় ও প্রতিষ্ঠানগুলো ফলাফল তুলনা, সরবরাহকারীর যোগ্যতা যাচাই এবং পরীক্ষামূলক উৎপাদনের প্রস্তুতি নিতে পারে।

বিশ্ববিদ্যালয় ও কোম্পানির নতুন উপকরণ উদ্ভাবনের উদ্যোগ

এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট যুগের জন্য নতুন রাসায়নিক উপাদান তৈরিতে চীনা বিশ্ববিদ্যালয় ও স্টার্টআপগুলোও কাজ করছে। সিংহুয়া বিশ্ববিদ্যালয়ের একটি দল জুলাই মাসে পলিটেলুরোক্সেন ফটোরেজিস্টের কথা জানায়। এতে পলিমারের মূল কাঠামোতে টেলুরিয়াম পরমাণু যুক্ত করে ১৩.৫ ন্যানোমিটার তরঙ্গদৈর্ঘ্যের আলো শোষণের ক্ষমতা বাড়ানো হয়। এক্সপোজারের সময় Te-O বন্ধন সহজে ভেঙে যায়। এতে সংবেদনশীলতা বাড়ার পাশাপাশি আণবিক ওজন কম রাখা সম্ভব, যা রেজোলিউশন উন্নত করে। উপাদানটি বড় পরিসরে উৎপাদন করা গেলে সংবেদনশীলতা, লাইনের খসখসে ভাব ও গ্যাস নির্গমনের মধ্যে আরও ভালো ভারসাম্য রেখে এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট প্যাটার্নিংয়ের জন্য এটি স্থানীয় বিকল্প হতে পারে।

করপোরেট খাতে, SiCarrier-এর একটি উপকরণ বিভাগ টিন অক্সাইড ক্লাস্টারভিত্তিক ধাতব ক্লাস্টার ফটোরেজিস্ট উপস্থাপন করেছে বলে পেটেন্ট নথিতে উল্লেখ রয়েছে। এতে ৩ থেকে ৫০ ন্যানোমিটার পর্যন্ত প্যাটার্ন তৈরির দাবি করা হয়েছে। ফাউন্ড্রির উৎপাদন লাইনে স্বাধীনভাবে যাচাই না হওয়া পর্যন্ত এসব দাবির সত্যতা নিশ্চিত নয়, তবে এগুলো বৃহত্তর একটি প্রবণতার ইঙ্গিত দেয়। যন্ত্রপাতি নির্মাতারা স্থানীয় লিথোগ্রাফির বিকল্প বাড়ানোর পাশাপাশি চীনা প্রতিষ্ঠানগুলোও ফটোরেজিস্ট উন্নয়নের প্রতিযোগিতায় নামছে। সাংহাই মাইক্রো ইলেকট্রনিক্স ইকুইপমেন্টের নতুন একটি স্পিন-অফ প্রতিষ্ঠান যৌগিক সেমিকন্ডাক্টরের জন্য স্টেপার, লেজার অ্যানিলিং সিস্টেম ও পরিদর্শন সরঞ্জাম প্রদর্শন করেছে। ASML-এর উন্নত এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট স্ক্যানার এখনো চীনের নাগালের বাইরে, তবে উপকরণ, পরিমাপ প্রযুক্তি ও নকশার সফটওয়্যারের ঘাটতি পূরণে দেশটির শিল্প-পরিবেশ এগোচ্ছে।

এই অগ্রগতি কী, আর কী নয়

পিকিং বিশ্ববিদ্যালয়ের গবেষণাটি একটি নির্দিষ্ট সমস্যার সমাধান নিয়ে: ডেভেলপমেন্ট ও রিন্সের সময় তরল ফিল্মে এবং বাতাসের সংযোগস্থলে রেজিস্ট পলিমারের আচরণ। এসব কাঠামো সরাসরি চিত্রায়িত করে সেগুলো কীভাবে তৈরি হয় তা বদলে দিয়ে দলটি দূষণের একটি সাধারণ উৎস কমানোর পদ্ধতি প্রস্তাব করেছে। এর গুরুত্ব হলো, উৎপাদন প্রক্রিয়ার সমন্বয় করতে কম সময় লাগতে পারে এবং বারবার পরীক্ষা-নিরীক্ষার প্রয়োজন কমতে পারে। নতুন নোডের উৎপাদন শুরু করার সময় এই দুটিই দীর্ঘদিন ধরে বিলম্বের কারণ।

সবচেয়ে ছোট নকশা বৈশিষ্ট্য তৈরির জন্য প্রয়োজনীয় অত্যাধুনিক স্ক্যানার, মাস্ক ও ফটোরেজিস্টের বিকল্প এটি নয়। এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট লিথোগ্রাফিতে অবশিষ্টাংশের বাইরেও নানা চ্যালেঞ্জ রয়েছে। আলোর উৎসের উজ্জ্বলতা সীমিত, শট নয়েজের কারণে লাইনের প্রান্তে আকস্মিক তারতম্য দেখা দেয়, আর রেজিস্টকে সংবেদনশীলতা ও লাইনের খসখসে ভাব এবং প্যাটার্ন ভেঙে পড়ার ঝুঁকির মধ্যে ভারসাম্য রাখতে হয়। মাস্কের পেলিকলকে উচ্চশক্তির আলো সহ্য করতে হয় এবং দূষণ নিয়ন্ত্রণও কঠিন। সংযোগস্থল নিয়ন্ত্রণে উপকার হবে, তবে চীনা কারখানাগুলো যেসব যন্ত্র কিনতে ও তৈরি করতে পারে, তার সীমাবদ্ধতা থেকেই যাবে।

দাবিগুলো ব্যাপকভাবে যাচাই করাও প্রয়োজন। একটি নির্দিষ্ট পরিবেশে ৯৯ শতাংশ হ্রাসের ফল সব ধরনের ফটোরেজিস্ট বা প্রতিটি স্তরে প্রযোজ্য নাও হতে পারে। নকশার ঘনত্ব, ডেভেলপার, রিন্স এবং এচিংয়ের রাসায়নিকের পারস্পরিক প্রভাব জটিল। পরবর্তী ধাপে একাধিক কারখানা ও প্রক্রিয়ায় ফলটি পুনরায় যাচাই করতে হবে এবং অবশিষ্টাংশ কমার সঙ্গে চূড়ান্ত ফলন ও নির্ভরযোগ্যতা বৃদ্ধির যোগসূত্র দেখানো ডিভাইস-স্তরের তথ্য প্রকাশ করতে হবে।

গবেষণা ও শিল্পখাতের পরবর্তী পদক্ষেপ

বাস্তবে এই অগ্রগতি উৎপাদনকে বদলে দেবে কি না, তা কয়েকটি মাইলফলকে বোঝা যাবে। প্রথমত, স্বাধীন ফাউন্ড্রি ও উপকরণ সরবরাহকারীরা প্রচলিত ArF ইমারশন এবং শুষ্ক এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট স্তরসমষ্টিতে পদ্ধতিটি পরীক্ষা করে প্রক্রিয়ার কার্যকর সীমা প্রকাশ করতে পারে। দ্বিতীয়ত, গুরুত্বপূর্ণ স্তরগুলোতে এই পদ্ধতি প্রয়োগ করলে পুনঃপ্রক্রিয়ার পরিমাণ কতটা কমে এবং লাইনের প্রান্তের খসখসে ভাব ও গুরুত্বপূর্ণ মাত্রার তারতম্য কতটা উন্নত হয়, তা ফাউন্ড্রিগুলো জানাতে পারে। তৃতীয়ত, যন্ত্রপাতি ও রাসায়নিক সরবরাহকারীরা এমন যন্ত্রের সেটিং ও উপাদানের ফর্মুলা প্রস্তাব করতে পারে, যাতে সংযোগস্থল নিয়ন্ত্রণ সরাসরি ব্যবহারযোগ্য প্রস্তুত প্রক্রিয়ায় যুক্ত হয় এবং গ্রাহকেরা বড় পরিবর্তন ছাড়াই তা গ্রহণ করতে পারেন।

চীনের নীতিগত পদক্ষেপে ফটোরেজিস্ট উপকরণে ধারাবাহিক বিনিয়োগের ইঙ্গিত রয়েছে। এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট ফটোরেজিস্টের জাতীয় পরীক্ষার মানদণ্ডে কার্যকারিতা তুলনা ও উৎপাদিত ব্যাচের যোগ্যতা যাচাই সহজ হওয়ার কথা। টেলুরিয়ামভিত্তিক পলিমার নিয়ে সিংহুয়া বিশ্ববিদ্যালয়ের কাজসহ বিভিন্ন বিশ্ববিদ্যালয় কর্মসূচি দক্ষ জনবলের ধারাকে সচল রাখছে। বিভিন্ন কোম্পানি জনসমক্ষে স্ক্যানার, পরিদর্শন ব্যবস্থা ও নতুন ফটোরেজিস্টের সমন্বয় তুলে ধরতে শুরু করেছে, যা আরও পরীক্ষামূলক প্রকল্পের ইঙ্গিত দেয়। চীনের বাইরে যুক্তরাষ্ট্র, ইউরোপ, জাপান ও দক্ষিণ কোরিয়ায় সরকার-সমর্থিত কর্মসূচিগুলো চিপ গবেষণায় কোটি কোটি ডলার বিনিয়োগ করছে। প্রতিটি অঞ্চল উপকরণ সরবরাহের আরও বেশি অংশ নিজেদের নিয়ন্ত্রণে নেওয়ার চেষ্টা করায় ফটোরেজিস্টবিষয়ক প্রতিযোগিতা আরও তীব্র হওয়ার সম্ভাবনা রয়েছে।

মূল বিষয়গুলো

• পিকিং বিশ্ববিদ্যালয় ও তাদের অংশীদারেরা তরল ফিল্মে এবং সংযোগস্থলে ফটোরেজিস্ট অণুর ছবি তুলতে ক্রায়ো ইলেকট্রন টমোগ্রাফি ব্যবহার করেছেন। এরপর দলটির দাবি অনুযায়ী, ১২ ইঞ্চি ওয়েফারে পলিমারের অবশিষ্টাংশ ৯৯ শতাংশ পর্যন্ত কমানোর একটি প্রক্রিয়া তৈরি করেছেন।
• গবেষণাটি ২০২৫ সালের ৩০ সেপ্টেম্বর Nature Communications-এ প্রকাশিত হয়। এর লক্ষ্য ৭ ন্যানোমিটার ও তার চেয়ে ছোট নোডে ফলন কমানোর সমস্যা, যেখানে সামান্য অবশিষ্টাংশও ডাই নষ্ট করতে পারে।
• উচ্চমানের ফটোরেজিস্টের জন্য চীন এখনো আমদানির ওপর নির্ভরশীল এবং রপ্তানি নিয়ন্ত্রণের কারণে ASML-এর উন্নত এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট স্ক্যানারে প্রবেশাধিকার নেই।
• অর্থায়ন ও মানদণ্ড প্রণয়নের মাধ্যমে চীন উপকরণ খাতকে সহায়তা করছে। এর মধ্যে এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট ফটোরেজিস্টের নতুন জাতীয় পরীক্ষার মানদণ্ডও রয়েছে।
• সিংহুয়া বিশ্ববিদ্যালয় টেলুরিয়ামভিত্তিক এক্সট্রিম আল্ট্রাভায়োলেট ফটোরেজিস্টের কথা জানিয়েছে। চীনা কোম্পানিগুলো ধাতব ক্লাস্টার ফটোরেজিস্ট ও দেশীয় লিথোগ্রাফি সরঞ্জামও প্রদর্শন করেছে, তবে অনেক দাবিই এখনো স্বাধীনভাবে যাচাই করা হয়নি।
• এই অগ্রগতি ফটোরেজিস্টের সংযোগস্থলে আচরণ সম্পর্কে বোঝাপড়া ও নিয়ন্ত্রণ উন্নত করে, তবে উন্নত স্ক্যানার, মাস্ক ও পরবর্তী প্রজন্মের ফটোরেজিস্টের প্রয়োজন দূর করে না।